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检测能力：支持DC/RF双模式溅射，能够实现金属、半导体、介质陶瓷等多种单层及多层复合薄膜的制备
检测周期：7 工作日
项目好评率：暂无评价
服务次数：174 次
仪器型号：DP650磁控溅射镀膜机。DP650为法国Alliance Concept公司旗舰型高真空磁控溅射镀膜系统，采用φ650mm真空腔体与模块化多靶设计，可搭载多组磁控溅射源，支持DC/RF双模式溅射，能够实现金属、半导体、介质陶瓷等多种单层及多层复合薄膜的制备。 该系统可实现纳米级至微米级薄膜的精准沉积，配备衬底原位离子清洗活化功能，搭载10℃样品台水冷系统，兼容块体、硅片、陶瓷等多种基底，可满足4寸基片的薄膜工艺开发需求。
周一到周日 8:30 - 21:30
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